Σύστημα ενσωματωμένης διασκορπισμού μαγνητρονίων
Η ενσωματωμένη μηχανή επίστρωσης με διασκορπισμό magnetron είναι κυρίως DC (ή MF) η επίστρωση με ψεκασμό magnetron μπορεί να προσαρμοστεί σε ένα ευρύ φάσμα στόχων, όπως: χαλκός, τιτάνιο, χρώμιο, ανοξείδωτο χάλυβα, νικέλιο και άλλα μεταλλικά υλικά που μπορούν να επικαλυφθούν χρησιμοποιώντας μια διαδικασία ψεκασμού μπορεί να βελτιώσει την πρόσφυση του φιλμ, την αναπαραγωγιμότητα, την πυκνότητα, την ομοιομορφία και άλλα χαρακτηριστικά.
- ένα.Τα βασικά χαρακτηριστικά και οι παράμετροι
- σι.δομή οριζόντιας γραμμής μπορεί να πραγματοποιηθεί ταυτόχρονα επικαλυμμένη στη μία πλευρά
- ντο.αποδοτικότητα παραγωγής, οι πιο γρήγορες ταχύτητες έως και 1 λεπτό / ρυθμό
- ρε.αρθρωτός σχεδιασμός, εύκολη συντήρηση
- μι.ωριμότητα διαδικασίας επιμετάλλωσης, υψηλή απόδοση
- φά.Οι κάθοδοι διασκορπισμού μαγνητρονίου συνεχούς ρεύματος μπορεί να διαφέρουν ανάλογα με τις απαιτήσεις του πελάτη
- σολ.το σύστημα κενού αποτελείται από μια μηχανική αντλία, αντλίες Roots, αντλίες διάχυσης (μοριακή αντλία) Σύνθεση
- η.Το μέγεθος του αμαξώματος της γραμμής μπορεί να διαφέρει ανάλογα με τις απαιτήσεις του πελάτη
- 1) Τα υλικά του σώματος του θαλάμου κενού που χρησιμοποιούνται SUS304, γυαλίζοντας μια επεξεργασία τοίχου θαλάμου κενού, την επεξεργασία σφαιριδίων στίλβωσης με σπρέι εξωτερικού τοίχου.
- 2) Χρησιμοποιώντας μια ανεξάρτητη βαλβίδα πύλης μεταξύ του θαλάμου κενού - η βαλβίδα πτερυγίου χωριστά, μπορεί να αποκόψει αποτελεσματικά, να σταθεροποιήσει το αέριο διεργασίας.Επί του παρόντος, η εταιρεία μας υιοθετεί το σχέδιο βαλβίδας πτερυγίου, σφραγίζει καλύτερα, πιο ανθεκτικό από την τρέχουσα οικιακή κοινή βαλβίδα πτερυγίου.
- 3) Η μετάδοση χρησιμοποιεί μαγνητικό οδηγό, προστατεύει τη σταθερότητα της μονάδας.Για κάθε ταχύτητα ολόκληρης της γραμμής παραγωγής που χρησιμοποιεί κινητήρα VVVF, η ταχύτητα λειτουργίας μπορεί να ρυθμιστεί.
- 4) Ηλεκτρικό σύστημα ελέγχου: Οθόνη αφής και αυτόματος έλεγχος PLC, διάλογος ανθρώπου-μηχανής για την επίτευξη του συστήματος εμφάνισης δεδομένων, παραμέτρων λειτουργίας και τεχνολογία ελέγχου
- 1) Τελική πίεση κενού: 6 × 1 0E-4 Pa
- 2) ο μέσος κύκλος παραγωγής: σύμφωνα με το προϊόν που προσδιορίζεται
- 3) Μέγεθος συγκράτησης υποστρώματος: μπορεί να προσαρμοστεί σύμφωνα με τις απαιτήσεις του
- 4) Ομοιομορφία φιλμ: ± 3% η προηγμένη τεχνολογία κινητού πεδίου έχει βελτιώσει σημαντικά τη χρήση του στόχου
- Ο τμηματικός σχεδιασμός του θερμαντήρα συμβάλλει στη βελτιστοποίηση της διαδικασίας.
Γράψτε το μήνυμά σας εδώ και στείλτε το σε εμάς
